二氧化硅的測(cè)定方法有多種，本篇主要介紹揮散法。

若某個(gè)試樣中二氧化硅的含量在98%以上，應(yīng)用氫氟酸揮發(fā)重量差減法（即揮散法）來(lái)測(cè)定SiO2含量。

具體測(cè)定步驟如下：

將鉑坩堝中測(cè)定過(guò)燒失量的試樣，用少量水潤(rùn)濕，加入4～5滴硫酸及5～7mL氫氟酸，放在電爐上低溫加熱，揮發(fā)至近干時(shí)，取下放冷，再加2～3滴硫酸及3～4mL氫氟酸，繼續(xù)加熱揮發(fā)至干，然后升高溫度，至三氧化硫白煙完全逸盡。將鉑坩堝置于高溫爐中，于950℃溫度下灼燒30分鐘，取出放在干燥器中冷至室溫，稱(chēng)重。如此反復(fù)灼燒，直至恒重。

SiO2=×100

G1——測(cè)燒失量時(shí)灼燒后試樣和坩堝的重量,g；

G2——?dú)堅(jiān)�和坩堝的重�?g；

G——試樣的重量，g；

若試樣中SiO2含量在98%以下，采用上述方法測(cè)定SiO2將引起較大的誤差。這種情況下，宜采用重量法或氟硅酸鉀容量法來(lái)測(cè)定。